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SML Resist / PMMA Resist

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半導体用レジスト
半導体加工における電子線リソグラフィの中で使用されるレジスト(感光材)。

20年以上にわたり電子線リソグラフィ および ナノ加工用材料を専門的に開発しているイギリスのEM Resist社では、SML Resist / PMMA Resistの2種類を取り扱っています。

検索キーワード:
電子ビーム描画装置 / 電子線描画装置 / Electron Beam Lithography

メーカー
EM Resist Ltd.
http://www.emresist.com/

取り扱い商品の一例

商品名 納品方法 納期 価格
SML Resist (レジスト膜厚/容量をお知らせください) 弊社より配送 お問い合わせください お問い合わせください
PMMA Resist (分子量/希釈度/容量をお知らせください) 弊社より配送 お問い合わせください お問い合わせください

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商品説明




SML Resist / 製品詳細(メーカーWEBサイト)

低加速電圧でも近接効果補正を使用せずに
高解像度・高アスペクト比のパターンに同時にパターニングが可能な、
特別に設計された新しいレジスト。

レジスト膜厚を 50nm/100nm/300nm/600nm/1000nm/2000nm からお選びいただけます。

ご希望のボトルサイズ(容量)をお知らせください
50mL/100mL/150mL/200mL/250mL/500mL/750mL/1000mL


製品詳細

・Very high resolution : <10nm
・Very high aspect ratio :
… >10:1 @ 30 kV
… >50:1 @ 100 kV
・Thickness : 50 nm - 2000 nm (50/100/300/600/1000/2000)
・Superior LER/LWR
・Very straight sidewalls
・Excellent surface adhesion (HMDS not required)
・Excellent etch resistance

推奨処理条件

・Casing solvent : Anisole
・Pre-bake : 180°C for 2 minutes
・Exposure : 200-500 μC/cm2 @ 30kV
・Developer : MIBK:IPA (1:3) for 30s. All other PMMA developers will also work with SML resist.
・Stopper : IPA for 15s
・Remover : Acetone

SML Resist 写真 ※クリックで拡大します

写真はともに50mLのボトル。




PMMA Resist / 製品詳細(メーカーWEBサイト)

業界標準のPMMA(ポリメチルメタクリレート)レジスト。

Molecular Weight(分子量)を 950,000/495,000/350,000/120,000/35,000 からお選びいただけます。
Dilutions (希釈度)は A2~A12でご指定いただけます。

ご希望のボトルサイズ(容量)をお知らせください
250mL/500mL//1000mL/1500mL/2000mL/2500mL/3000mL


推奨処理条件

・Casing solvent: Anisole
・Pre-bake: 180°C for 2 minutes
・Exposure: 100-300 μC/cm2 @ 30kV
・Developer: MIBK:IPA (1:3) for 30s. All other PMMA developers will also work with SML resist.
・Stopper: IPA for 15s
・Remover: Acetone

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SML Resist / PMMA Resist用の現像液(Developers) および 剥離液(Remover)もございます。
詳細はこちら

レビュー

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